国产350nm光刻机获批量订单，九个月完成验证交付
芯上微装AST6200步进光刻机近期通过国内化合物半导体头部客户产线验证，并获批量重复订单，从首台交付到复购仅用9个月。设备实现100%自主可控，分辨率350nm，套刻精度80nm（正面）/500nm（背面），兼容SiC、GaN等多种衬底及2-8英寸基片，覆盖功率器件、射频、Micro LED等场景。该设备属步进式（Stepper），专用于化合物半导体和先进封装，区别于硅基逻辑芯片所用的Scanner。芯上微装脱胎于上海微电子，专注超越摩尔领域，其封装光刻机全球市占约35%，国内约90%。此次订单标志着国产中高端光刻设备在第三代半导体量产线已具备实质性替代进口能力。
