我国还要自研EUV光刻机吗 我国当然要自研EUV光刻机，而且必须得加快速度。EUV光刻机是制造7nm及以下先进芯片的关键，没它，手机CPU、AI芯片等高端芯片都造不出来。
荷兰ASML垄断全球EUV光刻机市场，一台卖数亿欧元，还被美国施压不卖给中国。要是不自研，只能在成熟制程里徘徊，被别人用先进芯片碾压。
自研EUV光刻机难度极大，极紫外光源研发花了三十年、上百亿；超高精度反射镜表面粗糙度小于0.1纳米；纳米级运动台误差不能超几纳米。但为了国家科技自主权，再难也得搞，不能被人卡脖子。
我国还要自研EUV光刻机吗 我国当然要自研EUV光刻机，而且必须得加快速度。EUV光刻机是制造7nm及以下先进芯片的关键，没它，手机CPU、AI芯片等高端芯片都造不出来。
荷兰ASML垄断全球EUV光刻机市场，一台卖数亿欧元，还被美国施压不卖给中国。要是不自研，只能在成熟制程里徘徊，被别人用先进芯片碾压。
自研EUV光刻机难度极大，极紫外光源研发花了三十年、上百亿；超高精度反射镜表面粗糙度小于0.1纳米；纳米级运动台误差不能超几纳米。但为了国家科技自主权，再难也得搞，不能被人卡脖子。
